School of Physics Science and Technology, Zhanjiang Normal University, Zhanjiang 524048, China;
School of Physics Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 730000, China;
Cu_2ZnSnS_4; thin film; solar-cell; ion beam sputtering;
机译:磁控溅射溅射不同堆积顺序的前驱体制备的Cu_2ZnSnS_4薄膜的性能
机译:离子束溅射沉积技术制备非晶碳薄膜的结构,光学和电学性质的相关性研究
机译:后硫化对单四元靶溅射沉积Cu_2ZnSnS_4薄膜的组成,结构和光学性能的影响
机译:Cu_2ZNS_4通过离子束溅射前体的硫化制备的薄膜及其电气和光学性质
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:通过反应离子束溅射制备的Sn-Y-O薄膜的结构,电气和气体传感器性能