名大院ェ fujimura.nobuyuki@b.mbox.nagoya-u.ac.jp;
名大院ェ;
机译:用光电子能谱评估热氧化SiO_2 / 4H-SiC的化学键状态和缺陷能级密度
机译:光电子谱的热氧化SiO_2 / 4H-SiC的化学键合状态及缺陷水平密度评价
机译:通过远程等离子体辅助CVD形成的SiO_2 / GaN界面的化学粘接状态和热稳定性评价
机译:XPS的化学耦合状态和内部电位评估Y_2O_3 / SIO_2接口
机译:用电子光谱研究III-VI层半导体的化学键合和异质结中的界面形成
机译:第56届极谱和电分析化学年会论文集“基于分配控制的液-液界面上电毛细管曲线的表面活性离子吸附潜力的评估”