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【24h】

反強磁性結合した積層型磁性細線における磁壁構造の電流駆動を用いた探査

机译:使用电流驱动探测反铁磁耦合堆叠电磁线的畴壁结构

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摘要

近年、強磁性細線上に作製した磁区の電流駆動現象が新たな磁気メモリに応用できるとして注目を集めている。非磁性金属と積層された垂直磁化強磁性細線では、積層界面のDzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)によりネール磁壁が安定し、そのカイラリティはDMIの符号に依存することが知られている。また、二つの強磁性層が非磁性中間層を介して強い反強磁性結合をした磁性細線では磁壁が従来の二倍以上の速度で電流駆動されるという結果が報告されている。そこで、本研究では中間層の種類を変えたときの反強磁性結合膜磁性細線の磁壁構造の違いの探査を目的とした。
机译:近年来,已经注意到以下事实:在铁磁线上形成的磁畴的电流驱动现象可以应用于新的磁存储器。已知在层叠有非磁性金属的垂直磁化的铁磁线中,通过在层叠界面处的Dzyaloshinskii-Moriya相互作用(DMI)来稳定Neel畴壁,并且其手性取决于DMI的符号。另外,据报道,在通过非磁性中间层强反铁磁性地耦合了两个铁磁性层的磁性细线中,畴壁的电流驱动速度是以往的两倍。因此,本研究的目的是研究当中间层的类型改变时反铁磁耦合膜的电磁线的畴壁结构的差异。

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