室温ソフトプラズマによるSiC_xN_yO_z薄膜形成法の開発

摘要

SiC_xN_yO_z膜は、耐久性及び耐熱性と耐酸性を向上させる保護膜材料として幅広く応用できると期待されている。室温でSiC_xN_yO_z膜を製膜できれば、融点の低い材料にも適用可能になる。既往の研究[1]において、アルゴン(Ar)プラズマ中にモノメチルシラン(SiH_3CH_3, MMS)ガスと窒素(N_2)ガスを供給することにより、非晶質SiC_xN_yO_z薄膜が室温で形成可能であることが報告されたことから、本研究では、室温で製膜されるSiC_xN_yO_z膜の膜厚と組成の制御について調査した。