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量子化磁束径より大きなナノ析出物ピンを含む (RE)BCO 薄膜のJ_c(H, θ, T) に関する考察

机译:考虑(RE)BCO薄膜的J_c(H,θ,T)包含大于定量磁通直径的纳米沉淀针

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摘要

筆者らは、YBCO 薄膜の臨界電流密度の磁界角度依存性 J_c(H, θ) 測定と透過電顕(TEM)観察による磁束ピン止め機構の解明を進めてきた。量子化磁束径より大きなナノ析出物が、中磁界領域 B = 0.5–2 T で c 軸中心のブロードなJ_c(θ) ピークをもたらすことを見出すとともに、要素的ピン力密度f_p の直接和によってピン止め力密度Fp とJ_c を計算して合理的な説明を与えた。このようなブロードピークは高磁界領域でつぶれてきて、いわゆるバタフライ形状のJc(θ) 曲線が出現する。今回、その起因について考察した。
机译:通过测量YBCO薄膜J_c(H,θ)的临界电流密度的磁场角依赖性和TEM观察,作者一直在推进对磁通钉扎机制的阐明。我们发现,纳米沉淀物大于量化的磁通直径,导致在中磁场区域B = 0.5–2 T中以c轴为中心的宽J_c(θ)峰,并且基本销钉力密度f_p的直接和计算了制动力密度Fp和J_c,并给出了合理的解释。这样的宽峰在高磁场区域中塌陷,并且出现所谓的蝴蝶形Jc(θ)曲线。这次,我们考虑了原因。

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