TriQuint Semiconductor, 500 W Rentier Road, Richardson, TX 75080;
RIE; substrate via; selectivity; Ti; pHEMT;
机译:在线湿法刻蚀/清洗系统中各种基材移动方式的ITO湿法刻蚀性能
机译:AFM和SEM研究湿法蚀刻图案化蓝宝石衬底(PSS)的地形演化研究(PSS):第III部分。 在各种温度下在H2SO4和H3PO4混合物中蚀刻锥形PSS
机译:AFM和SEM研究湿法蚀刻图案化蓝宝石衬底(PSS)的晶体和地形演进研究:第二部分。 在H 2 SO 4和H3PO4混合物中蚀刻锥形PSS,体积比在230摄氏度下
机译:使用RIE和湿蚀刻工艺通过蚀刻轮廓优化基板
机译:用蚀刻和沉积法对二氧化硅接触孔的等离子体蚀刻轮廓进行建模。
机译:局部表面等离子体共振的湿蚀金纳米结构的轮廓预测和制备
机译:局部表面等离子体共振的湿蚀金纳米结构的轮廓预测和制备