Institute of Optics Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, People's Republic of China;
hafnia; ion beam sputtering; oxygen partial pressure; laser-induced damage threshold; diode pump laser;
机译:离子束溅射和离子束辅助沉积制备的铁薄膜的耐蚀性
机译:离子束溅射和离子束辅助沉积制备的铁薄膜的耐蚀性
机译:离子束溅射和离子束辅助沉积制备的铁薄膜的耐腐蚀性
机译:高功率脉冲磁控溅射制备的TISI / C,TISIN / C和TISIO / C多层薄膜性能研究
机译:通过反应溅射制备的阳离子掺杂钛双氧薄膜:合成,表征和在环境催化中的应用。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:直流磁控溅射与大功率脉冲磁控溅射制备CrNx薄膜的比较研究