Polymer/Synthesis Group, Electronic Chemical Material RD Center, Cheil Industries Inc., 332-2, Gocheon-Dong, Uiwang City, Gyeonggi-Do, Korea 437-711;
ArF lithography; amorphous carbon layer (ACL); etch selectivity; spin-on organic hardmask; tri-layer resist process (TLR);
机译:低于70 nm器件的旋转有机硬掩模的新材料
机译:碳基可旋转有机硬掩模的亚50纳米纳米图案
机译:高折射率旋涂感光材料和图像传感器器件的工艺优化
机译:70nm器件中的旋转有机硬掩模材料
机译:用于有机电致发光器件和有机光伏器件的新型有机材料。
机译:基于无机钙钛矿和有机材料的白光发射装置
机译:基于富勒烯衍生物的旋转碳作为高纵横比蚀刻的硬掩模材料