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Models for Predicting the Index of Refraction of Compounds at 193 and 589 nm

机译:化合物在193和589 nm的折射率预测模型

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摘要

A simple empirical model is presented that predicts the index of refraction at 589 nm (D-line) and 193 nm for molecules based solely on chemical structure. The model was built by comparing literature values of refractive indices (sodium D-line 589 nm) of compounds with representative functionalities and has 18 adjustable parameters. Published values for n_D and n_(193) were used to extrapolate the predictions from values of n_D to values of n_(193). These simple, accessible models can be run using only Excel software on a laptop computer.
机译:提出了一个简单的经验模型,该模型仅基于化学结构即可预测分子在589 nm(D线)和193 nm处的折射率。该模型是通过比较具有代表性功能的化合物的折光指数(钠D线589 nm)的文献值建立的,并具有18个可调参数。 n_D和n_(193)的已发布值用于将预测从n_D的值外推到n_(193)的值。这些简单易用的模型只能在便携式计算机上使用Excel软件运行。

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