Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Dr., Rolla, MO, USA 65401;
248 nm; developer soluble; photosensitive; anti-reflective coatings;
机译:通过全晶圆和卷对卷步进和闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:用于193 nm平版印刷的新型低反射指数含氟聚合物基顶部抗反射涂层(TARC)
机译:介电分辨率增强涂层技术(DiRECT)-使用248 nm光刻技术和等离子增强聚合技术的低于90 nm的空间和孔图案化技术
机译:一种新的248nm光刻显影剂可溶性抗反射涂层的方法
机译:光学设备和涂层的干涉光刻。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层