Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koushi-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto-ken 869-1116, Japan;
Tokyo Electron America Ltd. 2400 Grove Boulevard, M/S B-220, Austin, Texas 78741, America;
immersion exposure; defect; track process; penetration;
机译:用于193 nm干式和浸没式光刻的新型材料的开发
机译:开发用于193 nm干法和浸没式光刻的新型抗蚀剂材料
机译:193 nm浸没式光刻-远场方法的水中气泡图像表征
机译:193-NM浸入光刻工艺材料中水渗透的行为和影响
机译:工程纳米材料在模拟废水处理过程中的命运和生物效应。
机译:柔性袋中热加工的遮目鱼(Chanos chanos)的热渗透特性:蒸汽施加和水浸之间的比较研究
机译:开发193-NM干燥和浸入式光刻的新型材料
机译:Cr基合金与金属间材料的疲劳与断裂行为研究:加工对二元Cr-Ta合金组织和力学行为的影响