Nissan Chemical Industries, LTD. 635 Sasakura Fuchu-machi, Toyama-shi, Toyama, 939-2752, Japan;
multi-layer process; Si-ARC; BARC; hard mask; resist profile; sublimation; hyper-NA; immersion;
机译:Immersion的发展开启了超NA光刻技术的时代
机译:用于ARF浸入光刻的新型快速蚀刻速率BARC
机译:ArF浸没光刻的新型快速蚀刻速率BARC
机译:超级浸入光刻工艺的多层条形
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:用常规的紫外光刻和微细加工技术制备具有窄缝孔的多层聚合物微筛
机译:Hyper-Na浸入式光刻对照明器缺陷的敏感性