IBM, 257 Fuller Rd., Albany, NY, USA 12203;
IBM, 257 Fuller Rd., Albany, NY, USA 12203;
IBM, 257 Fuller Rd., Albany, NY, USA 12203;
Tokyo Electron Technology Center, America,LLC, 255 Fuller Rd., STE 244, Albany, NY, USA 12203;
Tokyo Electron Technology Center, America,LLC, 255 Fuller Rd., STE 244, Albany, NY, USA 12203;
Tokyo Electron Technology Center, America,LLC, 255 Fuller Rd., STE 244, Albany, NY, USA 12203;
Resist slimming; double patterning; sidewall-image transfer (SIT); self-aligned double patterning (SADP);
机译:在荷兰的现实环境中,改编的SLIM糖尿病预防干预措施的可行性和潜在影响:SLIMMER试点研究。
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