School of Engineering Science, Simon Fraser University, 8888 University Drive, Burnaby, BC V5A 1S6, Canada;
direct-write photomask; thermal resist; bimetallic thin film;
机译:EBDW光刻中的AZ 5214E抗蚀剂及其在N 2 sub>等离子体中刻蚀薄Ag层时用作RIE刻蚀掩模
机译:直接写入电子束光刻技术的抗蚀剂掩模和纳米线形成
机译:开发用于最大掩模蚀刻的过程配方和具有垂直侧壁的最大蚀刻速率,用于深度,高度各向异性电感耦合等离子体(ICP)蚀刻熔融二氧化硅的蚀刻
机译:波长不变BI /热抗蚀剂作为SI各向异性蚀刻掩模层和直接写入光掩模材料
机译:用于各向异性蚀刻光刻的计算机辅助掩模版图合成。
机译:双层电阻变化存储器中电阻切换的物理电热模型
机译:波长不变的Bi / In热阻抗作为si各向异性蚀刻掩模层和直接写入光掩模材料