Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films 1ST, Bienroder Weg 54 E, 38104 Braunschweig, Germany;
Fraunhofer Institute for Surface Engineering and Thin Films 1ST, Bienroder Weg 54 E, 38104 Braunschweig, Germany;
reactive magnetron sputtering; mixed oxides; process control; optical emission spectroscopy; silica; hafhia; optical properties; thin film properties;
机译:非对称双极性脉冲直流反应磁控溅射沉积类金刚石薄膜的结构和光学性质
机译:高效反应性脉冲磁控溅射工艺沉积氧化铝薄膜的性能
机译:脉冲反应磁控溅射沉积氧化锆薄膜的性能
机译:反应磁控溅射沉积的混合氧化物薄膜光学性质的温度依赖性
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:反应性直流磁控溅射制备Ni-W混合氧化物薄膜的光学性质