Andrew W. Metz, Peter Biolsi, Anton Devilliers, TEL Technology Center, America, LLC (United States);
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Andrew W. Metz, Peter Biolsi, Anton Devilliers, TEL Technology Center, America, LLC (United States);
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机译:具有EUV自对准双重图案化的关键亚30纳米间距Mx电平图案化的自对准阻挡集成演示
机译:间隔物定义的双图案中的晶圆级临界尺寸控制,用于低于72 nm的间距逻辑技术
机译:自对准双图案化工艺用于45 nm节距的减法Ge鳍制造
机译:临界子40nm间距MX电平图案的自我对齐的集成演示
机译:具有高密度互连的自对准晶圆级集成技术(SAWLIT),用于RF和光电应用
机译:使用使用AuPdPtCu和IR和IR和IR的MACE方法自对准高纵横比硅3D结构的晶圆级集成
机译:使用使用Au,Pd,Pt,Cu和IR和IR和IR的MACE方法自对准高纵横比硅3D结构的晶圆级集成
机译:关键的火灾天气模式,它们的频率和火灾危险程度