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Drain induced barrier lowering and impact ionization effects in short channel polysilicon TFTs

机译:短沟道多晶硅TFT中的漏极诱导势垒降低和碰撞电离效应

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摘要

The effect of channel length reduction on the electrical characteristics of self-aligned polysilicon TFTs has been investigated by combining experimental characteristics and 2-D numerical simulations. The role of drain induced barrier lowering and floating body effects has been carefully analized using numerical simulations.
机译:通过结合实验特性和二维数值模拟,研究了沟道长度减小对自对准多晶硅TFT的电学特性的影响。排水引起的势垒降低和浮体效应的作用已通过数值模拟进行了仔细分析。

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