低ガス圧力運転を可能にする磁気ミラー型マグネトロンスパッタリングカソード

摘要

プラズマスパッタリングは、大面積で高速成膜が可能であることから、半導体産業をはじめとして広く応用されている。その中でも金属ターゲット上でE × B ドリフトによりプラズマを閉じ込めるマグネトロンカソードが、さらに高速成膜に有用であるとして一般的に用いられている。