首页> 外文会议>2019年第66回応用物理学会春季学術講演会講演予稿集 >室温原子層堆積法を用いたNb_2O_5積層コーティングの耐腐食特性
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室温原子層堆積法を用いたNb_2O_5積層コーティングの耐腐食特性

机译:室温原子层沉积法制备Nb2O5叠层涂层的耐蚀性能

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摘要

金属酸化物の表面コーティングは食品包装、自動車、建築、有機エレクトロニクスなど幅広く用いられている。なかでもAl_2O_3(アルミナ)は耐腐食コーティング材料としてよく知られる。しかし、アルミナは水分に対して若干の潮解性があり、長期間の腐食性に難点がある。一方、Nb_2O_5(酸化ニオブ)をアルミナ上に積層することにより耐腐食性能が大きく改善する報告が既になされているが高温での成膜が必須であり、フレキシブルエレクトロニクス分野への応用が難しいという問題があった。本研究では室温原子層堆積法(Room temperature atomic layer deposition: RT-ALD)を用いてアルミナと酸化ニオブの積層膜を形成しその耐腐食特性を評価した。
机译:金属氧化物表面涂层广泛用于食品包装,汽车,建筑和有机电子产品。其中,众所周知的Al_2O_3(氧化铝)是耐蚀涂层材料。然而,氧化铝相对于水具有轻微的潮解性,并且在长期腐蚀性方面存在问题。另一方面,已经报道了在氧化铝上堆叠Nb_2O_5(氧化铌)极大地改善了耐腐蚀性,但是高温下的成膜是必不可少的,并且难以将其应用于柔性电子领域。曾经有。在这项研究中,通过使用室温原子层沉积(RT-ALD)形成氧化铝和氧化铌的层压膜来评估耐腐蚀性。

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