軟X 線発光分光および高輝度赤外分光を用いたアモルファス窒化炭素薄膜の化学結合状態評価

摘要

アモルファス窒化炭素（a-CNx）薄膜において、近年、数nm程度のグラファイトクラスタ以外にも、数µm 程度の結合不均一な領域が存在することが明らかとなった。そこで本研究では、結合状態の不均一性について、さらに多くの知見を得るため、高輝度フーリエ変換赤外分光法（FTIR）を用いてa-CNx薄膜の微小領域マッピング測定を行い、軟X線発光分光（SXES）の結果と比較した。また、化学結合状態が光誘起変形[3]に及ぼす影響を調べるため、可視光照射下で同様の実験を行った。