Department of Material Chemistry, Faculty of Engineering, Yokohama National University 79-5, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama 240-8501, Japan;
palladium deposition; sonication; texture coefficient;
机译:超声和振动对氨浴电沉积锌膜晶体取向的影响
机译:电沉积氧化铜膜:镀液pH值对晶粒取向和取向相关界面行为的影响
机译:施加的电流密度,熔池浓度和温度对电沉积赤铁矿薄膜的形态,晶体结构和光电化学性能的影响
机译:超声处理对氨浴电沉积钯膜晶体取向的影响
机译:界面电化学和表面表征:氢封端的硅,在热解光刻胶膜上化学沉积的钯和铂,在铱上电沉积铜。
机译:约束表面诱导取向和应变对液晶薄膜中细菌动力学行为的影响
机译:有机添加剂对氨氯浴锌电源的晶体取向,晶格常数,碳含量和硬度的影响。
机译:微晶取向对mos2薄膜氧化的影响