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机译:电沉积氧化铜膜:镀液pH值对晶粒取向和取向相关界面行为的影响
Materials Science and Engineering Program, The University of Texas at Arlington, Arlington, TX 76019-0065, USA;
cathodic electrodeposition; grain orientation; flat band potential;
机译:由于等温老化,表面氧化和界面金属间化合物的生长对铜基板上电沉积锡薄膜可焊性降低的综合影响
机译:电沉积氧化锌/四磺酸铜酞菁(ZnO / Ts-CuPc)杂化膜的表征及其光电化学性能
机译:一种稳健的利用石墨烯氧化物在铜表面上提高电沉积的聚-3-氨基-5-巯基-1,2,4-三唑膜的腐蚀抑制能力的鲁棒方法
机译:电沉积氧化铜薄膜的带隙对光伏应用浴液中硫酸铜(CuSO4.5H2O)的浓度和pH的依赖性
机译:界面电化学和表面表征:氢封端的硅,在热解光刻胶膜上化学沉积的钯和铂,在铱上电沉积铜。
机译:LaCoO3外延纳米薄膜的取向依赖性结构和光催化性能
机译:焦磷酸盐铜镀浴中无机添加剂电沉积薄铜膜特性研究