Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
Photovoltaics Research Center(PVREC), Tokyo Institute of Technology, 2-12-1-NE-16 O-okayama, Meguro, Tokyo 152-8552, Japan;
机译:异质衬底上用于薄膜太阳能电池的氮化硅和本征非晶硅双抗反射涂层
机译:纹理氧化锌薄膜的制备及其在氢化非晶硅太阳能电池中的应用
机译:薄膜非晶氧化硅/微晶硅双结太阳能电池的开发及其温度依赖性
机译:使用固有型非晶硅氧化硅薄膜制备双杂连接Ge太阳能电池
机译:无定形和纳米晶体基薄膜太阳能电池透明导电氧化物和背反射器的研究
机译:SiNx阻挡层对聚酰亚胺Ga2O3掺杂的ZnO p-i-n氢化非晶硅薄膜太阳能电池性能的影响
机译:用于高效非晶硅薄膜太阳能电池的新型氢还原P型无定形氧化硅缓冲层
机译:离子镀技术制备氢化非晶硅薄膜和薄膜太阳能电池的制备与表征。最终报告,1979年1月1日至1980年5月31日