Advanced Technology Development, Globalfoundries, Malta, NY, USA;
10nm; CD shrink; M1; atomic layer deposition; iso-dense; loading; local interconnect;
机译:PEB烘烤优化以改善混合等密度模式的过程窗口
机译:将实施策略从学术界转移到现场所面临的挑战使用标准化过程理论对荷兰初级卫生保健中本地质量改进合作组织进行过程评估
机译:大面积p型PERL电池具有通过激光加工ALD Al2O3层形成的局部p(+)BSF
机译:10nm局部互连挑战与ASO密集的装载和使用ALD间隔工艺改进
机译:可扩展的系统架构,可与3D堆叠处理器环境中的自由空间光互连一起使用
机译:卒中音患者的定位误差模式由双耳声音空间处理器处理
机译:CVD / ALD基Cu(Mn)/ Co(W)互连系统的表征和工艺开发