ECE, University of Massachusetts Amherst, USAc;
E-Beam Lithography; Manufacturing Pathway; Nsup3/supASICs; Nanofabrication; Nanoscale Computing Fabrics; Semiconductor Nanowires;
机译:Rgo在碳织物上包围垂直对准的CO3O4纳米线:柔性场发射器阵列的高效原型
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机译:使用同步加速器计算机断层扫描技术对织物进行3D实验定量和剪切颗粒材料的织物演变
机译:超越CMOS纳米线计算面料的实验原型
机译:超越CMOS时代的计算:超越CMOS电路和体系结构的研究
机译:用于净化疟疾感染血液的无纺布原型过滤器的开发和评估
机译:织物/工具和织物/织物摩擦在温液加工过程中的实验研究