MagnaChip Semiconductor Ltd., 1 Hyangjeong-dong Heungdeok-gu Cheongju-si Chungcheongbuk-do 361-728 Koreac;
机译:Ge渗透到28nm SRAM的PMOSFET通道中引起的明显阈值电压漂移
机译:由于机械应力增强的等离子体工艺引起的损伤,导致阈值电压漂移在0.13- $ muhbox {m} $ pMOSFET中
机译:关于在ALGAN / CAN高电子迁移率晶体管中的AltiO栅极和正阈值电压偏移中导致p型掺杂的深层状态的观察
机译:H HTOL后Heip引起的HV PMOSFET VTH(阈值电压)换档
机译:使用低电压(LV)和高压(HV)碳化物(SIC)器件,实现高效率中电压转换器和用于高速驱动器和其他网格应用,以及高压(HV)碳化硅(SIC)器件
机译:全V阈值电压偏移分析
机译:绝缘体表面上的偶极子引起的有机场效应晶体管中的短时标阈值电压漂移