Dpto. Electrónica, Facultad de Ciencias, Universidad de Granada. Av. Fuentenueva, S/N, 18071 ? (Spain);
机译:单电荷陷获对超尺度平面和Trigate FDSOI MOSFET变异性的影响:实验与仿真
机译:非掺杂三栅SOI MOSFET亚阈值摆幅的分析模型
机译:在Al2O3缓冲液上的自上而下的平面内GaAs纳米线MOSFET,其三栅极氧化物来自聚焦离子束研磨和化学氧化
机译:界面状态对Trige MOSFET技术变异性的影响
机译:对纳米级三栅MOSFET中的随机掺杂剂波动效应进行建模。
机译:n型SixGe1-x纳米线MOSFET下一代技术的变异性预测
机译:压缩应变的Ge三栅极p-mOsFET