首页> 外文会议>2012 IEEE 9th International Conference on Group IV Photonics. >High-fidelity photonic building blocks fabricated using thermal nanoimprint lithography (T-NIL)
【24h】

High-fidelity photonic building blocks fabricated using thermal nanoimprint lithography (T-NIL)

机译:使用热纳米压印光刻(T-NIL)制造的高保真光子构建基块

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摘要

We demonstrate high-fidelity photonic patterns, feature sizes (80nm to 3µm), using T-NIL. Appropriate CAD file design allows complete elimination of residual layer. Our fabricated ultra-compact microdisk resonators show similar quality factors to e-beam written samples.
机译:我们使用T-NIL演示了特征尺寸(80nm至3µm)的高保真光子图案。适当的CAD文件设计可完全消除残留层。我们制造的超紧凑型微盘谐振器显示出与电子束书面样本相似的品质因数。

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