Electronics and Communication Engineering, Harbin Institute of Technology, POBox 341,92 Xidazhi Street, Harbin,China,150001;
microwave; ECR; discharge chamber; plasma;
机译:电子回旋共振离子源等离子体的X射线光谱分析
机译:电子回旋共振等离子体处理过程中晶圆充电引起的薄氧化物损伤的等离子体参数依赖性
机译:理解和利用近地区空间环境中等离子体湍流的双静电/电磁特性
机译:电子 - 回旋谐振等离子体电磁特性研究
机译:发散电子回旋共振等离子体源中等离子体波动的实验研究。
机译:从137mBa起竞争性γ/γ衰变的电磁特性
机译:电子回旋共振等离子体处理过程中晶片充电造成的薄氧化物损伤的等离子体参数依赖性
机译:用于电子回旋共振等离子体加热的高功率微波传输系统。进展报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日。