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机译:成像干涉光刻:将光学器件扩展到基本极限甚至更高
Steven R. Brueck; Univ. of New Mexico; Albuquerque; NM; USA.;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:受激发射减少荧光显微镜:扩展双光子荧光成像的基本深度极限的概念
机译:成像干涉式光刻:将光学延伸到基本限制和超越
机译:干涉光刻的研究:接近光学系统的线性系统极限。
机译:评“量子干涉光学光刻:开发 缠绕衍射极限的纠缠“
机译:用于干涉式合成孔径显微镜和其他干涉成像的计算自适应光学器件
机译:干涉合成孔径显微镜和其他干涉成像的计算自适应光学
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