首页> 中文会议>第十二届全国敏感元件与传感器学术会议 >磁控溅射制备纳米银膜的微结构及光学常数研究

磁控溅射制备纳米银膜的微结构及光学常数研究

页面导航

摘要

采用直流磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了一组工艺参数不同的纳米银(Ag)薄膜,用原子力显微镜(AFM)观察了表面形貌,分析了衬底温度、工作气压等工艺参数对Ag薄膜表面粗糙度的影响.结果表明:随着衬底温度从室温增大到593K,折射率n逐渐减小.

来源
《第十二届全国敏感元件与传感器学术会议》|2012年|178-180|共3页
会议地点昆山
作者
Tang Yunhai; 唐运海; Shen Jiaoyan; 沈娇艳; Cheng Xinli; 程新利; Qin Changfa; 秦长发; Pan Tao; 潘涛; Wang Bing; 王冰; Wang Wenxiang; 王文襄;
展开▼
作者单位

中国仪器仪表学会;

中国电子学会;

中国航空学会;

中国生物医学工程学会;

全国高校传感技术研究会;

展开▼
会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.1:TN304.055;
关键词
银薄膜; 磁控溅射法; 工艺参数; 表面粗糙度; 折射率;
入库时间 2022-08-17 10:58:44