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【2h】

The Effects of Precursor C2H2 Fraction on Microstructure and Properties of Amorphous Carbon Composite Films Containing Si and Ag Prepared by Magnetron Sputtering Deposition

机译:前体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含有Si和Ag的无定形碳复合膜微结构和性能的影响

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