改性碳化硅反射镜磁流变抛光表面粗糙度研究

摘要

对于碳化硅反射镜的硅改性层,实验室自研的磁流变抛光液在抛光过程中,存在一种不同于传统抛光技术的表面缺陷,该表面疵病表现为细长划痕,划痕深度从较深逐渐变浅,直至消失,即“彗尾”现象.“彗尾”缺陷严重影响碳化硅反射镜的表面粗糙度,使得修形精度很高的磁流变抛光技术无法在碳化硅反射镜改性层上有效利用.