利用硅胶表面分子印迹技术制备Cd2+吸附剂

摘要

离子印迹聚合物(IIP)是一种具有离子识别能力的聚合物材料.文章根据在硅胶表面分子印迹技术的基本思路,采用接枝法,将二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷为功能分子接枝到硅胶微粒表面,然后以Cd2+为模板离子,以环氧氯丙烷为交联剂,通过配位键作用,实施了离子印迹聚合,制备了离子印迹聚合物IIP-N4/SiO2.并利用红外光谱法对IIP-N4/SiO2进行表征.运用原子吸收分光光度法研究了IIP-N4/SiO2对Cd2+的结合特性,可以看出IIP-N4/SiO2对Cd2+有很好的识别特性和吸附能力,该离子聚合物对Cd2+的最大吸附量Q可达到22mg/g.吸附效率也非常高,20min就基本可以达到吸附平衡.比较了印迹聚合物(IIP-N4/SiO2)和非印迹聚合物(NIP)对Cd2+的吸附效率,可以看出印迹聚合物(IIP-N4/SiO2)表现出了更好的识别特性和吸附能力.同时IIP-N4/SiO2在pH为3.7～8.2的条件下,吸附效果最好.IIP-N4/SiO2对Cd2+/Pb2+,Cd2+/Cu2+,Cd2+/Ni2+,Cd2+/Zn2+和Cd2+/CO2+的相对选择性系数(k')分别是6.17,6.53,6.23,5.75,15.8.