磁控溅射TaNx/Ag/TaNx低辐射复合膜的性能

摘要

氮化钽薄膜具有很好的光学性能和优异的物理化学性能，如耐磨性好、硬度大、化学稳定性好。但鲜有将氮化钽薄膜应用于低辐射涂层的报道。本文设计了新型的TaNX/Ag/TaNX低辐射涂层，试验研究了膜层厚度、N2流量、Ta靶溅射功率等工艺参数对TaNx/Ag/TaNx低辐射涂层光学及化学性质的影响。旨在提高低辐射复合膜的光学特性及耐蚀性能。本文以银靶和钽靶为靶材,N2为反应气体,室温下采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积TaNx/Ag/TaNx复合膜系.运用紫外可见分光光度计(UV-VIS)、表面轮廓仪、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)等仪器对薄膜的各项性能进行检测分析.结果表明:TaNx溅射功率为80W,N2流量50sccm,溅射时间为40min条件下,结构为TaNx(60nm)/Ag (12nm)/TaNx (60nm)时,该复合膜系在波长550nm处的透过率达到了82％,远红外辐射率为0.087,并且具有很好的机械性能和化学稳定性.