机译:双层周期对直流磁控溅射获得的Tanx / Tacx多层机械性能的影响
Univ Politecn Sinaloa Carretera Municipal Libre Mazatlan Higueras Km 3 Mazatlan 82199 Sinaloa Mexico;
Univ Nacl Autonoma Mexico Ctr Nanociencias & Nanotecnol Km 107 Carretera Tijuana Ensenada Ensenada 22860 BC Mexico;
Univ Ind Santander CIMBIOS Calle 9 Carrera 27 Bucaramanga Colombia;
Univ Nacl Colombia Lab Fis Plasma Km 7 Via Magdalena Manizales Colombia;
Univ Nacl Autonoma Mexico Ctr Nanociencias & Nanotecnol Km 107 Carretera Tijuana Ensenada Ensenada 22860 BC Mexico;
Tantalum nitride; Tantalum carbide; Thin films; Multilayers; Transmission electron microscopy; Mechanical properties; X-ray diffraction;
机译:调节期对直流磁控溅射沉积WB2 / CRN膜结构和力学性能的影响
机译:双层数量对磁控溅射沉积的[TIN / TICRN]多层涂层机械和摩擦学性质的影响
机译:各种硅层对直流磁控溅射Fe / Si多层膜层间厚度的影响
机译:退火时间对直流磁控溅射制造的GZO薄膜性能的影响
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射反应溅射ZrH2薄膜