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重掺Al3+对ZnO薄膜光学性能的影响

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本文利用射频磁控溅射方法,在Si基片和玻璃基片上制备Al3+掺杂浓度10％-40％的ZnO薄膜,并测试了薄膜的透射谱和光致发光谱.随着Al3+掺杂浓度的提高,ZnO薄膜的吸收边向短波长方向蓝移;当Al3+掺杂浓度达到20％以后,吸收边基本稳定在314nm左右;光致发光谱中,在355nm附近有很强的紫外发射,深能级发光峰的位置随着Al3+掺杂浓度的不同有所差异.

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来源
《第十四届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》|2006年|403-406|共4页
会议地点广西北海
作者
袁庆亮; 李燕; 李金丽; 薛书文; 韦敏; 邓宏;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类化合物半导体;
关键词
ZnO薄膜; 光致发光谱; 透射谱; 射频磁控溅射;
入库时间 2022-08-17 11:26:05

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