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一种用于减少由DHF引起硅片表面金属沉积的方法

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本文研究了DHF溶液中金属Cu在硅片表面的沉积情况和几种特选的螯合剂在DHF中的应用.GFAAS的测试结果表明:DHF溶液中加入少量螯合剂,就可以使硅片表面的金属Cu的沉积量显著减少,减少的效果取决于螯合剂与金属的螯合能力.

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来源
《第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术年会》|2005年|114-116|共3页
会议地点北京
作者
张西慧; 刘玉岭;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类表面处理;
关键词
DHF; 螯合剂; 硅片; 金属沉积; 金属Cu;
入库时间 2022-08-17 11:18:46

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