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磁控溅射制备TbFeCo薄膜及其光学和磁光性质研究

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采用放电等离子烧结(SPS)TbFeCo合金靶,分别在Si衬底和K9玻璃衬底上磁控溅射制备了磁光薄膜TbFeCo/Si和TbFeCo/K9;利用扫描型可变入射角全自动椭偏仪,室温下测量了复介电常数谱,测量结果表明两样品介电函数值有较大差异,说明衬底对薄膜的光学性质有重要影响.用磁光Kerr谱仪,在室温下分别测量了TbFeCo薄膜的极向Kerr回线和横向Kerr回线,发现所制备TbFeCo薄膜不具有垂直磁化性质,而呈现出面内磁化性质.

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来源
《第五届中国功能材料及其应用学术会议》|2004年|790-792|共3页
会议地点秦皇岛
作者
张晋敏; 郜小勇; 李晶; 周鹏; 郑玉祥; 王松有; 张冬青; 陈良尧;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

中国金属学会;

中国稀土学会;

中国复合材料学会;

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的性质;
关键词
放电等离子烧结(SPS); 磁光薄膜; 椭偏光谱; 磁光Kerr效应; TbFeCo薄膜; 磁控溅射;
入库时间 2022-08-17 11:18:33

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