制备工艺参数对Mo-MoSi2梯度层断面显微组织的影响

摘要

以Mo为基体,利用KCl-NaCl-NaF-SiO2熔盐体系电沉积出的硅作为渗硅硅源,电沉积硅和在Mo基体上渗硅同时进行,制备了Mo-MoSi2梯度层.本文就制备工艺参数对梯度层断面显微组织的影响进行了研究,结果表明:该法制备的梯度层断面显微组织基本由柱状晶组织构成,其晶粒大小随制备工艺参数的变化而变化;电流密度的升高晶粒增大;脉冲参数t1/t2升高使晶粒增大,D升高使晶粒细化;温度对梯度层晶粒大小无明显影响;扩散热处理可使梯度层断面柱状晶组织发生实质性变化,并产生与基体Mo显微组织较接近的新的扩散层,同时使梯度层厚度增加.