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高性能ZHL无氰镀银工艺中提高电流密度的研究

摘要

传统的无氰镀银工艺电流密度一般小于0.5A/dm2,制约了生产企业的工作效率.本研究以ZHL-02无氰镀银工艺为基础,从微观结构出发,研究工艺中镀液温度对电流密度的范围的影响.结果给出低电流区置换对镀层起到决定作用,镀层结晶度高.推荐电流密度范围内结晶细腻,外观光亮.更高的电流密度导致结晶粗糙.不同温度对结晶的特点略有影响,但不显著.

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