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基于插入MoO3缓冲层并五苯OFET的研究

摘要

制备基于半导体层为并五苯用10nmMoO3修饰源漏电极的有机场效应晶体管(OFET).与未修饰电极的有机场效应晶体管相比较,有机场效应晶体管的性能有了很大的提高.迁移率和阈值电压分别是0.24cm2/Vs和6V.其性能的改善主要归咎于插入一层薄的金属氧化物MoO3改善了电极与有机半导体层之间的接触电阻,使得有机场效应晶体管的性能得到了很大的改善.

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