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刘军海;
中国硅酸盐学会特种陶瓷分会;
等离子体;
机译:脉冲等离子体增强化学气相沉积系统的等离子体和气相表征,该系统设计用于氧化铝薄膜的自限生长
机译:通过等离子体增强化学气相沉积,用单一前体1,1,1,3,5,7,7,5-二氧化硅氧烷沉积的低k SicoH薄膜沉积。通过等离子体增强化学气相沉积,含有单次前体1,1,1,3,5,7,7,7八甲基-3,5-双(三甲基硅氧基)四硅氧烷
机译:使用微波等离子体化学气相沉积硼掺杂的单晶金刚石生长。使用微波等离子体化学气相沉积
机译:使用CH {Sub} 4 / h {Sub} 2 / NH {Sub} 3气体的微波等离子体辅助化学气相沉积中的微波等离子体辅助化学气相沉积的原位等离子体诊断碳纳米管的生长
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:H2等离子体预处理对微波等离子体化学气相沉积法垂直排列碳纳米管生长的影响
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积技术的GaN / AlGaN Hemts钝化性能分析
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术形成的碳 - 碳复合材料氧化保护系统。
机译:等离子体处理方法,等离子体处理装置,等离子体化学气相沉积方法和等离子体化学气相沉积系统
机译:将处理气体引入用于等离子体辅助化学气相沉积的处理室中的方法和用于等离子体辅助化学气相沉积的装置
机译:等离子体增强化学气相沉积装置和等离子体增强化学气相沉积方法
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