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刘锋; 韩高荣; 赵高凌; 张溪文;
中国真空学会;
中国电子学会;
中国光学学会;
中国物理学会;
中国机械工程学会;
中国仪器仪表学会;
中国材料研究会;
硅/碳化硅镀膜玻璃退火处理性能光污染;
机译:使用脉冲激光退火和远程等离子体CVD以及低温处理技术制造的高性能多晶硅TFT
机译:退火和热循环锻造对过共晶硅铝结构和性能的复杂影响
机译:种子层和热退火对PECVD沉积硅层结构和光学性质的影响
机译:通过HWCVD,RF PECVD和VHF PECVD沉积的氢化非晶硅层的晶体硅表面钝化:热退火对少数群体寿命的影响
机译:退火对薯os淀粉分子结构和性能的影响
机译:PECVD对低温生长的掺硼氢化晶体硅的退火
机译:水循环处理对过共晶硅铝蛋白AK18(B-Sn)的结构和性能的影响
机译:不同老化热处理 - 退火 - 退火和老化热处理对1,400°F温度下的拉伸,蠕变和应力 - 破裂强度的影响
机译:超低压快速热退火-氨化法处理硅氮氧化物中的氮剖面
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