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朱亚江;
中国电子学会;
电子束直写; 制版; 版图修正;
机译:电子束设计:一种用于批量生产的提高电子束直写吞吐量的新颖方法
机译:多电子束直写系统的高效布局数据压缩算法及其低复杂度,高性能硬件解码器实现
机译:您的布局密度验证是否准确?一种快速精确的深亚微米密度计算算法
机译:直写电子束光刻技术在深亚微米制造中的应用
机译:一种基于图形用户界面(GUI)输入的算法,可以自动生成用于发布捕获研究的多状态模型。
机译:通过聚焦电子束感应沉积生成直写三维纳米结构的图案
机译:电子束无损布局图像压缩算法 直写光刻
机译:aNL(阿贡国家实验室)修订版图形指南
机译:当指定从转录为光掩模的图形修正方式的半导体晶片的实际转印图案的图案尺寸减去上述半导体晶片的设计图案尺寸的值时,记录该图形修正程序和该程序的记录介质。
机译:修正电子束光刻时的线宽变化,修正形成在掩模上的图案的线宽变化
机译:perezionamenti在准备印版图形数据时
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