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一种新型的金属剥离技术研究

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提出了一种用于MEMS工艺的DRT金属剥离新技术.采用双层普通正性光刻胶,两次曝光,再用甲苯处理,使光刻胶断面上宽下窄,表面呈倒角悬垂.淀积金属后,用丙酮作剥离液,不需要加速超声波振动,很容易地完成金属剥离.

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来源
《第五届全国微米/纳米技术学术会议》|2001年|312-314|共3页
会议地点重庆
作者
闫桂珍; 张大成; 李婷; 王颖;
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作者单位

国家自然科学基金委员会;

科技部;

解放军总装备部;

清华大学;

重庆大学;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;隔离技术;
关键词
光刻; 金属剥离; 微机械电子系统;

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