硅基二氧化硅厚膜材料的快速生长

摘要

本文采用火焰水解法(FHD)在Si片上快速淀积SiO<,2>厚膜材料,材料膜厚达到40μm以上,生长速率达8μm/分钟.然后将该材料分别在真空中/空气气氛中高温致密化处理,获得了各种形态的二氧化硅厚膜材料,包括平整度好、光滑透明的玻璃态SiO<,2>厚膜材料.并利用XRD、SEM、电子显微镜等仪器对SiO<,2>膜的表面和膜厚进行了测试分析.