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质子LIGA工艺的探讨

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提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀,显影获得微结构.根据TRIM96程序进行模拟计算,结果表明该方法可以获得深度达数毫米、深度比为30以上的微结构.利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模.在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度.

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来源
《第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|2001年|339-341|共3页
会议地点成都
作者
彭良强; 徐韬光; 韩勇; 伊福廷; 张菊芳;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;制造工艺;
关键词
微细加工; 质子束; 准LIGA; 微型机电系统; 掩模法; 深度刻蚀;

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