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ARC工艺技术研究

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本文介绍了在半导体制造中应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,来详细、深刻地理解抗反射技术.最后给出了可以用于0.5um工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能的参数.

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来源
《中国电子学会第八届青年学术年会暨中国电子学会青年工作委员会成立十周年学术研讨会》|2002年|142-146|共5页
会议地点合肥
作者
温万良; 陆锋; 周林;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类半导体集成电路（固体电路）;制造工艺;
关键词
光刻工艺; 抗反射层技术; 半导体工艺; 集成电路;

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