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离子束辅助沉积(Ti,Al)N硬质涂层

摘要

离子束辅助沉积(IBAD)结合了PVD,沉积效率提高,改善了涂层和基体界面间的结合力,改进了离子注入深度浅的缺点,IBAD沉积过程中,会出现离子注入过程中粒子、沉积原子碰撞及溅射等物理现象以及沉积原子和离子化学反应等现象.本文研究的目的是寻找最佳工艺参数,以得到最佳涂层硬度和表面光洁度增加涂层的摩擦学性能.

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